´ë¸¸ÀÇ ¼¼°è ÃÖ´ë ÆÄ¿îµå¸®(¹ÝµµÃ¼ ¼öŹ»ý»ê) ±â¾÷ TSMC°¡ ÷´Ü¹ÝµµÃ¼ ÆÐŰ¡ÀÇ ÀϺ» ÀÌÀüÀ» °ËÅäÇÑ´Ù°í ¾Ë·ÁÁ³´Ù. ÃÖÁ¾ ½ÇÇàµÇ¸é ¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ ºÎÈ°À» ²ÒÇÏ´Â ÀϺ» Á¤ºÎÀÇ ³ë·Â¿¡ ź·ÂÀÌ ºÙÀ» Àü¸ÁÀÌ´Ù. 17ÀÏ(ÇöÁö½Ã°£) ·ÎÀÌÅÍÅë½ÅÀº ÀÌ ¹®Á¦¿¡ Á¤ÅëÇÑ À͸íÀÇ ¼Ò½ÄÅëÀ» ÀοëÇØ TSMC ¡®CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)¡¯ÀÇ ÀϺ» ³» ÆÐŰ¡ ¹æ¾ÈÀ» °í·Á ÁßÀ̶ó°í º¸µµÇß´Ù.
TSMC°¡ ÀÚü °³¹ßÇÑ CoWoS´Â °íµµÀÇ Á¤¹Ð±â¼úÀÌ´Ù. °ø°£À» Àý¾àÇÏ¸é¼ Àü·Â ¼Ò¸ð¸¦ ÁÙÀ̸ç 󸮴ɷÂÀ» ³ôÀδÙ. ÇöÀç TSMCÀÇ ¸ðµç CoWoS »ý»ê½Ã¼³ÀÌ ´ë¸¸¿¡ ÀÖ´Ù. 1¿ù ¿þÀÌÀúÀÚ TSMC ÃÖ°í°æ¿µÀÚ(CEO)´Â ¿ÃÇØ CoWos »ý»ê·®À» µÎ ¹è·Î ´Ã¸®°í ³»³â Ãß°¡ Áõ»ê °èȹµµ ¹àÈù ¹Ù ÀÖ´Ù. ÀáÀçÀûÀÎ ´ë(Óß)ÀϺ» ÅõÀÚ ±Ô¸ð³ª ÀÏÁ¤Àº ¾ÆÁ÷ °áÁ¤µÈ °Ô ¾ø´Ù°í µÎ ¼Ò½ÄÅëÀÌ ÀüÇßÀ¸¸ç TSMC´Â ³íÆòÀ» °ÅºÎÇß´Ù.
ÀΰøÁö´É(AI) ºÕ°ú ÇÔ²² ÷´Ü¹ÝµµÃ¼ ÆÐŰ¡ÀÇ ¼¼°èÀû ¼ö¿ä°¡ ±ÞÁõÇÏ¸é¼ TSMC¡¤»ï¼ºÀüÀÚ¡¤ÀÎÅÚ µî ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶»çµéÀÌ »ý»ê·® ´Ã¸®±â¿¡ ¹ÚÂ÷¸¦ °¡ÇÏ°í ÀÖ´Ù. ÃÖ±Ù TSMC´Â ÀϺ» ³²ºÎ ±Ô½´¿¡ °øÀåÀ» Çϳª ¿Ï°øÇßÀ¸¸ç ¶Ç ´Ù¸¥ °øÀå °Ç¼³ °èȹÀ» ¹ßÇ¥Çß´Ù. 2021³â µµÄì ºÏµ¿ÂÊ À̹ٶóÅ°Çö¿£ ÷´ÜÆÐŰ¡¿¬±¸°³¹ß¼¾Å͸¦ ¼³¸³Çß´Ù. TSMCÀÇ ÀϺ» ½Å»ý±â¾÷ ÅõÀÚ¾× ¶ÇÇÑ 200¾ï ´Þ·¯¸¦ ³Ñ¾î¼³ °ÍÀ¸·Î Ãß»êµÈ´Ù.
·ÎÀÌÅÍ´Â ¡°ÀϺ»¿£ ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀ硤Àåºñ ºÐ¾ß ¼±µµ ±â¾÷µéÀÌ ÀÖ´Ù¡±¸ç ¡°Ä¨ Á¦Á¶ ÅõÀÚ Áõ°¡¿Í źźÇÑ °í°´ÃþÀ¸·Î ÀϺ»Àº ÷´Ü ÆÐŰ¡ ºÐ¾ß¿¡¼ ´õ Å« ¿ªÇÒÀÌ °¡´ÉÇÑ ³ª¶ó·Î Æò°¡µÈ´Ù¡±°í ÀüÇß´Ù. ÀϺ» »ê¾÷¼ºÀÇ ÇÑ °íÀ§ °ü°èÀڴ ÷´Ü ÆÐŰ¡(ÀÌÀü)¿¡ ´ëÇØ ¡°À̸¦ µÞ¹ÞħÇÒ »ýÅ°谡 °®ÃçÁø ÀϺ»¿¡¼ ȯ¿µ¹ÞÀ» °Í¡±À̶ó°í ¸»Çß´Ù.
¹Ý¸é ºÐ¼®°¡ Á¶¾Ø ÿÀ´Â TSMC°¡ ÀϺ»¿¡¼ ÷´Ü ÆÐŰ¡ ¿ª·®À» ±¸ÃàÇÏ´õ¶óµµ Á¦ÇÑÀûÀÎ ±Ô¸ðÀÏ °ÍÀ¸·Î ³»´ÙºÃ´Ù. ±×´Â ¡°ÀϺ» ³» CoWoS ÆÐŰ¡ ¼ö¿ä°¡ ¾ó¸¶³ª µÉÁö ¾ÆÁ÷ ¸íÈ®ÇÏÁö ¾Ê´Ù¡±¸ç ¡°ÇöÀç TSMCÀÇ CoWoS ÁÖ¿ä °í°´ÀÎ ±â¾÷µéÀÌ ´ëºÎºÐ ¹Ì±¹¿¡ ÀÖ´Ù¡±°í ¤¾ú´Ù.
ÀÎÅÚ ¿ª½Ã ÀϺ» ¹ÝµµÃ¼ °ø±Þ¸Á ȸ»ç¿Í °ü°è °È¸¦ À§ÇØ ÇöÁö¿¡ ÷´ÜÆÐŰ¡¿¬±¸½Ã¼³ ¼³¸³À» °í·Á ÁßÀ̶ó°í ¶Ç ´Ù¸¥ ¼Ò½ÄÅëÀÌ ¾Ë·È´Ù. »ï¼ºÀüÀÚ´Â µµÄì ³²¼ÂÊ ¿äÄÚÇϸ¶¿¡ ÀϺ» Á¤ºÎÀÇ Áö¿øÀ» ¹Þ¾Æ °ü·Ã ¿¬±¸½Ã¼³À» Áþ°í ÀÖ´Ù. °æÀï»çÀÎ SKÇÏÀ̴нºÀÇ °í´ë¿ªÆø(ÍÔÓáæ´ø롤HBM) ¸Þ¸ð¸®Ä¨À» µû¶óÀâ±â À§ÇÑ ÆÐŰ¡±â¼ú µµÀÔÀ» ÁغñÇÏ¸é¼ ÀϺ» ³» ±â¾÷µé°ú ¿øÀÚÀç Á¶´Þ¿¡ °üÇØ ³íÀÇ ÁßÀ̶ó°í ·ÎÀÌÅÍ´Â ÀüÇß´Ù.